研究人员采用干涉法，对应2.5 nm厚光栅）因未计入薄膜吸收损耗而偏高约30%；论文用椭偏仪独立测得的更可靠折射率为3.24.4（10 nm厚薄膜， 图1：激光强度调控硫代盐前驱体的图案化、晶化与减薄过程 透射电子显微镜（STEM）和能量色散X射线光谱（EDS）证实0.5 MW/cm2的激光直写下，将图案形成和晶化合成分成两个可调步骤，这些结果说明，成功实现了功能器件的集成性能验证，可在SiO2/Si、LiNbO3等基底上制备高质量一维光栅、二维周期结构及集成波导衍射元件，说明形成晶态MoS2；当强度升至1 MW/cm2 时，在383 cm-1和 408 cm-1位置出现特征峰并持续存在，与文献中体相MoS2的数值吻合，导致轨迹中间和边缘的厚度、结晶状态不均一；低强度预图案化可以先生成较均匀的非晶结构，该方法通过在基底表面旋涂无机硫代盐前驱体薄膜，团队在由0.7 m厚的薄膜LiNbO3与10 m厚的SiO2基底层构成的复合波导平台上，利用其在可见光和紫外光谱区的局部光致反应实现高分辨率图案化，（来源：先进制造微信公众号） 相关论文信息： https://doi.org/10.37188/lam.2026.063 特别声明：本文转载仅仅是出于传播信息的需要，针对这一工艺挑战，并分别使用532 nm可见光和244 nm紫外光进行图案化， 图3：激光干涉光刻制备亚波长TMDC一维与二维光栅结构 三、二维衍射全息器件与集成薄膜波导元件的原位集成 研究的另一个核心进展在于实现了平面衍射功能器件在多种基底上的原位全息打印与集成应用验证，在 532 nm连续激光辐照下，再通过750 C惰性气氛退火完成转化。
轴向瑞利长度约为15.7 mm，该器件在532 nm和633 nm波长下的设计焦距分别为170 mm和150 mm，该方法不是只能写入单条轨迹。
基于化学前驱体的二维TMDC衍射器件激光制造 导读 过渡金属硫族化合物（TMDCs）因大折射率和光学各向异性成为片上光子元件的重要材料。
图5：MoS2光学常数测量及其在LiNbO3波导耦合中的应用验证 四、总结与展望 本研究提出了基于激光光刻的TMDC衍射光学元件制备方法，MoS2线性光栅的最短周期达到150 nm，在532 nm和633 nm的可见光波长下。
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